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  • GMD2000/4氧化鋯漿料超高速剪切分散機
    GMD2000/4氧化鋯漿料超高速剪切分散機

    氧化鋯漿料超高速剪切分散機的定轉子間隙一般為0.2-0.3mm,而普通乳化機一般為0.5-0.7mm,SGN定轉子更加精密,對于物料的細化效果更好。另外,SGN乳化機配置三組定轉子,物料通過工作腔體,相當于被剪切處理了3遍,乳化分散均質更*。

    更新日期:2025-06-23型號:GMD2000/4
  • GRS2000超高速分散機
    GRS2000超高速分散機

    超高速分散機的高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是Z重要的。根據一些行業特殊要求,思峻公司在GRS2000系列的基礎上又開發出GRX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉子的速度可以達到66m/s。

    更新日期:2025-06-23型號:GRS2000
  • GMD2000鈦酸鋰高速分散機
    GMD2000鈦酸鋰高速分散機

    SGN鈦酸鋰高速分散機采用膠體磨與分散乳化機(GMO+8SF)相結合的結構,在Z高轉速14000轉的高轉速下可以使用設備定轉子的線速度達到44m/s,甚至更高。在44m/s的高線速度剪切力下可以使鈦酸鋰等鋰電池漿料里的粒徑被處理的足夠細,在涂布過程中無顆粒劃痕,這樣使導電效果更好、更強大!

    更新日期:2025-06-23型號:GMD2000
  • GMD2000超高速納米氧化鋅研磨分散機
    GMD2000超高速納米氧化鋅研磨分散機

    納米氧化鋅的分散難點:納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當中,容易出現抱團的現象,導致物料粒徑變大,分散效果不佳,產品改性不充分。 如果使用普通的分散設備,很難將納米氧化鋅分散均勻,會出現團聚的現象,團聚體難以打開,而如果采用SGN研發的分散設備,研磨分散機的話,先研磨后分散機,解決團聚問題,可達納米氧化鋅還原至納米級。

    更新日期:2025-06-23型號:GMD2000
  • GRS200014000轉分散機
    GRS200014000轉分散機

    14000轉分散機的高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是Z重要的。根據一些行業特殊要求,思峻公司在GRS2000系列的基礎上又開發出GRX2000超高速剪切乳化機機。其剪切速率可以超過200.00 rpm,轉子的速度可以達到66m/s。

    更新日期:2025-06-23型號:GRS2000
  • GRS2000超高速易清洗分散機
    GRS2000超高速易清洗分散機

    SGN超高速易清洗分散機除了易清洗這個特點還有許多其他的優勢: 一、采用分體式結構,轉速高達14000rpm,線速度為41m/s,是普通分散機的4-5倍。 二、采用三級結構,定轉子有5種不同規格乳化分散盤,由粗到細,2P/2G/4F/6F/8SF,可根據想要的效果來選擇。 三、采用德國博格曼雙端面機械密封,并配有機封冷卻系統,在保證冷卻水的情況下,可24運行。 四、小試設備和中試設備,線速度*

    更新日期:2025-06-23型號:GRS2000
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